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如果能顺利拿下小松研究所的技术，那么他们就可以保证，在明年年底前，生产出193纳米的光刻机，将极限工艺递进到90nm，晶圆尺寸升级到12英寸。

这已经基本达到了国际的先进水平，毕竟虽然ASmL公司早

在1989年，就已经生产出第一台193纳米的光刻机。

可之后也只是在极限工艺上做到了进步，在前几年将极限工艺做到了65nm。

毕竟在真实历史上，光刻机产业在产业在193nm波长上卡了将近20年！

如何将工艺跨入到40nm工艺，成为了阻挡在所有半导体厂商门口的拦路虎。

直到2002年，浸入式光刻技术的出现，将原先镜头与光刻胶之间的介质从空气换成了液体，从而利用光通过液体介质后光源波长缩短达成了提高分辨率的要求。

至于真正量产，那就还要靠后，一直到2007年蔡司公司推出的Starlith1900i，成为了第一款达到38纳米极限分辨率的浸没式光学器件，ASmL公司继而才生产出跨越式的光刻机来。

而且这项技术最大的好处就是，其利用的还是原来的193nm干式光刻技术平台，只不过是单纯的介质改变，其他的技术应用并没有太多改动，所以比起一项崭新的技术，更能让客户接受。

因为李皓的提前指点，徐教授带领的技术团队，早在去年就已经开始进行这方面的研究。

李皓就是要利用这停滞的时间，来给国产的光刻机争取时间。

当然，李皓也清楚的明白，徐教授口中的生产，只是实验室里面的成绩。

而且这还是提前使用了浸入式光刻技术的缘故，真要论起在干式光刻机上的技术，实际上徐教授他们比起ASmL，还是要差上一些的。

并且从实验机到完全量产，还有很长的一断路需要走，但是李皓对此已经很欣慰了。

毕竟比起历史上同时代的空白处境，此时的国产光刻机，才是真的有了和世界其他公司对阵的希望，也不算是枉费李皓大笔投入进去的研究经费。

所以李皓也是拍着胸脯和徐教授承诺，一定会支持到底，就是砸锅卖铁也会把原定计划给完成下来。

好不容易给徐教授说的心血澎湃，把他给忽悠走后，李皓才和叶顺聊起了其中的困难。

虽然因为大环境不好，还有日本光刻机市场被抢的缘故，让它们有意向对外出售技术。

可是这个要价却是真的不便宜，要完全达到原先的计划，之前准备的资金还真的未必足够。

「钱的事你不用担心，我这里会给你准备足够的弹药，当然这次的金融危机还只是开始，日韩企业以后会受到的影响还将更大。

所以不用表现得太着急，毕竟钱可以备的充足，但是千万不能当冤大头。」

有了李皓的这个承诺，叶顺也就放心下来。

今天谈完了这件事后，叶顺从明天开始也就正式过上了放假生活。

于是李皓就问道：「新年你准备怎么过，是要留在香江，还是要去国外？」

叶顺闻言就一脸怨气：「你这话问的，今年你就给我放那么四天的假，还不让我请年假，我不留在香江，还能去哪？」

「没办法，今年确实是要忙一些，只能是让你辛苦一点了。

不过你放心，你的年终奖我都已经给你包好了，保证能让你满意。