第一二零三章 500nm光刻机研制成功（2/5）

G两大光刻机巨头如今正在研制130nm制程工艺的光刻机，上面还有90nm、65nm制程工艺的光刻机，还没有碰到65nm制程工艺的极限！

BSEC所采用的光刻机光源是GmArF准分子激光器，为了掌握其核心技术，邓国辉和钱富强率领光刻机光源研究技术人员丢掉对方的图纸，重新研制了一遍，BSEC光刻机公司如今能生产满足1um制程工艺、800nm制程工艺和500nm制程工艺的193nmArF准分子激光器，按照双方当初签订的公司发明专利转让协定，这些准分子激光器只能在BSEC光刻机上使用。

1995年7月，钱富强晋升研究员，担任光刻机光源研究所所长。

邓国辉院长主持BSEC光刻机研究院的全盘工作。

BSEC能生产8英寸晶圆、500nm制程工艺的光刻机，虽然离G制程工艺的光刻机，还差350nm、250nm和180nm三道关口，但这一步跨出去是多么的不易？

不亲自参与其中，不知道研发过程中的艰难！

BSE制程工艺的半导体生产线只是时间问题。

从1996年6月开始，BSEC投资8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机，一晃就过去了18个月，由邓国辉、欧阳明、陈伟长和夏季常等四位院士主持的这项系统性的研发工程终成正果。