第一二零三章 500nm光刻机研制成功（3/5）

光刻机自动化研究所早就准备好了满足500nm制程工艺光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统，这套系统是GCA1995年在BSEC提供的公司发明专利基础上研发成功的，专利属于BSEC。

夏季常院士带领研究所科研人员又研制一遍，性能更加完善！又研制了一遍满足350nm（也是GCA研发成功）制程工艺光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统。

1996年5月，夏季常院士带领光刻机自动化研究所率先研制成功满足250nm制程工艺光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统。

BSEC光刻机公司如今能生产能满足各种制程工艺光刻机的磁悬浮式双工作台系统，订单生产。

磁悬浮式双工作台系统如今还是全球唯一的双工作台系统，这也是孙健的功劳。

讲求效益的美国人也信奉造不如买，从不担心被人卡脖子！

像GCA和ASML等五成的光刻机公司选择BSEC生产的磁悬浮式双工作台系统，像Nikon和等五成的光刻机公司购买BSEC的公司发明专利，自己组织生产。

避免浪费宝贵的人力和资金，在孙健的指示下，GCA光刻机半导体研究院从1996年6月开始，停止研发和生产磁悬浮式双工作台系统，原有的32名研发人员被BSEC光刻机自动化研究所全部接收，古斯特里求之不得，直接购买BSEC生产相配套的磁悬浮式双工作台系统，从没想过BSEC会掐GCA的脖子。

32名研发人员的加入，BSEC光刻机自动化研究所如虎添翼，夏季常院士领衔研制的满足180nm光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统已经量产。